安集科技请求一种化学机械抛光液专利能够在碱性条件下明显按捺钨的去除速率
来源:江南全站app登录    发布时间:2024-10-07 22:38:20| 阅读次数:516

  金融界2024年6月28日音讯,天眼查知识产权信息数据显现,安集微电子科技(上海)股份有限公司请求一项名为“一种化学机械抛光液”,公开号CN0.5,请求日期为2022年12月。

  专利摘要显现,本发明供给了一种化学机械抛光液,包含研磨颗粒,钨速度按捺剂,pH调节剂和水。本发明中提出的化学机械抛光液能够在碱性条件下明显按捺钨的去除速率,然后供给许多资料的移除的相应选择性。